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为了限制中国芯片处理行业的发展，美国采取了多种方式。一方面，美国切断了国内半导体企业的贷款。例如，美国政府机构禁止TSMC向华为销售处理芯片，这限制了华为的发展。另一方面，美国已经建立了一个“去中国化”的半导体行业联盟。例如，美国加强了与日本和荷兰的合作，以扩大光刻工艺的支付范围。

光刻工艺是生产芯片不可缺少的设备之一。它可以将IC设计图案设计带到单晶硅中，从而形成芯片的微妙结构。目前，EUV光刻工艺和DUV光刻技术在市场上很重要。EUV光刻工艺分辨率高，生产率快，被称为下一代芯片加工不可缺少的工业设备。然而，美国阻碍了荷兰企业ASMLEUV光刻工艺的出口，这使得中国和其他国家无法购买这些设备。此外，美国仍在限制ASML向中国市场销售高端DUV光刻工艺。

由于消费电子产品产业链低迷等环境的影响，TSMC的销量受到了严重的不利影响。数据显示，今年3月，TSMC主营业务收入为1454.1亿元，同比下降15.4%。这也是过去45个月第一次出现如此严重的下降。前三个月主营业务总收入也下降了3.6%。这种下降趋势对TSMC来说并不理想，因为它是世界上最大的半导体设备OEM制造商之一。为了应对这种市政工作压力，TSMC做出了关键变化，以提高所有地区的能力：

tsmc为了应对市场可变性和供应链规定的变化，确认了生产量的提前准备，实际上减少了生产线和相应的订单细节。最近，《工商时报》报道称，tsmc做出了一个关键决定，即取消所有28nm机械设备的采购单。这是对ASML的严厉打击，因为TSMC是更多客户之一。此前，tsmc已经关闭了部分EUV光刻工艺，并暂停了台湾7nm加工工艺的生产规划，重点是28nm。但现在，TSMC取消了28nm设备的采购单，这对ASML来说可以说是天翻地覆。ASML可能会取消40%的订单。在这种情况下，ASML似乎只剩下一条路:押宝大陆市场。因此，由于中国是世界上最大的芯片市场之一，ASML可以考虑扩大在中国的项目，以弥补减少其他地方订单细节的影响。但在进入中国市场之前，ASML必须处理中国地方政府的一些问题，如知识产权标准的实施。

在美国与荷兰和日本达成三方协议限制光刻工艺供应后，ASML只关注“最前沿”DUV光刻工艺的出口限制。但是，还有另一种产品规格，TWINSCANNXT：1980Di仍然可以正常分配和安排交货。这种DUV光刻工艺的显示分辨率为38nm，但较大的得票率为7nm。换句话说，这种DUV光刻工艺可以帮助中国公司实现包括7nm在内的更成熟的技术加工芯片加工制造。虽然ASML股价下跌，部分订单信息被撤销，但企业的服务保障加快了中国项目和销售的扩张，以确保在不久的将来获得来自中国杨的订单信息。

因此，一些国际舆论建议TSMC和ASML协同“交付”DUV光刻工艺，帮助中国芯片制造商提高当前的检测水平。TSMC与ASML的合作可以帮助中国芯片制造商解决出口限制的影响，进一步发展芯片加工水平。虽然出口限制可能限制中国公司可以使用的优秀光刻工艺总数，但TWINSCANNXT：1980Di型号的便利性仍然为中国芯片制造商提供了再次改进生产制造的好时机。此外，TSMC和ASML的共同努力很可能会为两家企业在中国市场开辟新的机遇，特别是在中国再次投资中国半导体行业的情况下。

在此前的中国访问中，马克龙可以从中国大陆市场拿走100个订单细节，这也让许多欧盟团队成员羡慕不已。回国后，马克龙仍在积极劝说荷兰，呼吁荷兰保持领先地位和理念。当ASML解决了一个巨大的中国市场时，他从现在起就犹豫了。此时，TSMC的撤销合作加强了这种犹豫。ASML在如此巨大的市场上取消了与客户的合作，没有其他选择。但一切都是好是坏。对于国内光刻技术企业来说，ASML郑重声明了中国市场的订单信息，但慢慢吞没了市场。归根结底，解决芯片生产线设备的机械设备已经运行了20年，中国的28nm光刻技术已经进入了最终的关键时期。事实上，遏制市场就是遏制后续的科技研发投资和技术创新能力。在这种情况下，中国光刻技术公司必须不断深化技术创新，提高其核心竞争力，以应对来自己的核心市场竞争力。